Výroba a analýza gate-struktur pro nanotrubičkové elektronové zářiče 

Během stáže si osvojíte základy polovodičové technologie a přípravy nanostruktur. Naučíte se obsluhovat moderní fotolitograf s metodou přímého laserového zápisu, DMO MicroWriter ML3 a provádět další technologické kroky přípravy, včetně nanášení litografických laků pomocí spin-coatingu, chemické vyvolání motivu zapsaného litografem a další. 
V rámci analýzy vyrobených vzorků se seznámíte s pokročilými metodami, jako je např. SEM, AFM, konfokální mikroskopie, profilometrie a jiné. Budete tak mít příležitost podílet se na vývoji miniaturních elektronových zářičů a seznámit se s jejich problematikou. 

Skupina Elektronová litografie, oddělení Elektronové a plazmové technologie.

Více ke stážím.


Garant stáže / Responsible:
Obor / Subject:
Úroveň pokročilosti / Level:
Jazyk / Language:
Lokalita / Location: