Diagnostika reaktivního plazmatu pomocí planární vysokofrekvenční sondy při depozici polovodivých vrstev

V rámci vypsané stáže, se student zapojí do výzkumu plazmatických depozic krystalických polovodivých vrstev na bázi oxidů a sulfidů. Tyto vrstvy mají aplikace ve fotoelektrochemii, fotonice a technologii optoelektronických senzorů. Pro depozice polovodivých vrstev je použita metoda reaktivního pulzního magnetronového naprašování s přídavným vysokofrekvenčním induktivně vázaným plazmatem pracující v rezonanci elektronové cyklotronové vlny.  Klíčovým úkolem bude provádět diagnostiku reaktivního depozičního plazmatu pomocí planární vysokofrekvenční sondy (RF sonda) přímo při depozici tenké vrstvy. RF sonda je schopná měřit iontový tok na substrát, koncentraci iontů, elektronů a teplotu elektronů i v technologickém depozičním plazmatu, kde se sonda pokrývá elektricky nevodivou nebo polovodivou tenkou vrstvou.  Tyto měřené parametry plazmatu značně ovlivňují podmínky růstu těchto komplexních polovodivých oxidů.  Pomocí znalostí parametrů plazmatu bude možné kontrolovat parametry deponované vrstvy z hlediska jejich fyzikálních vlastností. Zkoumán bude vliv těchto parametrů na výsledné polovodivé vlastnosti deponované vrstvy.

https://www.fzu.cz/home