Diagnostika reaktivního plazmatu pomocí planární vysokofrekvenční sondy při depozici vrstev s antivirovým efektem

V rámci vypsané stáže, se student zapojí do výzkumu plazmatických depozic krystalických CuFeO₂ vrstev s antivirovým efektem. Pro depozice CuFeO₂ vrstev je použita metoda reaktivního pulzního magnetronového naprašování s přídavným vysokofrekvenčním induktivně vázaným plazmatem pracující v rezonanci elektronové cyklotronové vlny.  Klíčovým úkolem bude provádět diagnostiku reaktivního depozičního plazmatu pomocí planární vysokofrekvenční sondy (RF sonda) přímo při depozici tenké vrstvy. RF sonda je schopná měřit iontový tok na substrát, koncentraci iontů, elektronů  a teplotu elektronů i v technologickém depozičním plazmatu, kde se sonda pokrývá elektricky nevodivou tenkou vrstvou CuFeO₂.  Tyto měřené parametry plazmatu značně ovlivňují podmínky růstu tohoto komplexního polovodivého oxidu. Pomocí znalostí parametrů plazmatu bude možné kontrolovat parametry deponované vrstvy z hlediska jejich fyzikálních vlastností. Zkoumán bude vliv těchto parametrů na výsledný antivirální účinek těchto typů tenkých vrstev.

https://www.fzu.cz/home